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課程名稱 |
薄膜技術與表面分析
THIN-FILM TECHNOLOGY AND SURFACE |
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開課學期 |
96-2 |
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授課對象 |
學程 光機電系統學程 |
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授課教師 |
呂宗昕 |
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課號 |
ChemE5030 |
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課程識別碼 |
524 U1800 |
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班次 |
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學分 |
3 |
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全/半年 |
半年 |
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必/選修 |
選修 |
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上課時間 |
星期四7,8,9(14:20~17:20) |
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上課地點 |
綜403 |
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備註 |
與吳乃立、陳立仁、吳紀聖、何國川合開
總人數上限：30人 |
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課程簡介影片 |
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核心能力關聯 |
核心能力與課程規劃關聯圖 |
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課程大綱
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課程概述 |
開課目的：
薄膜技術在半導體、液晶顯示、數位儲存等電子產業有廣泛的應用，而表面性質對薄膜或材料結構之特性影響非常重要，在產業界或學術研究上表面分析儀器現常是必備工具。基於加強學生對於薄膜技術與表面分析之基礎學識及技術之訓練，提出此整合性教學與實驗課程，預期使本系的化學工程教學能配合時代趨勢，培育符合時代需求的化學工程人才，使學習此一課程之學生可同時具備化工、材料科學及半導體薄膜製程之知識。
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課程目標 |
課程大綱（包括教學與實驗）：
1.緒論：薄膜技術與表面分析
2. X光繞射感測薄膜晶相分析：
2.1溶膠-凝膠法鍍製膜製程 ：
溶膠-凝膠法化學原理；溶膠-凝膠法製程之物理現象；溼式鍍膜技術簡介。
2.2半導體化學感測器原理
2.3 X光繞射分析：
成份分析；晶粒尺寸分析；晶向分析。
2.4實驗：
SnO2 浸鍍鍍膜；X光繞射分析。
3. 電變色薄膜之製作與性能量測：
3.1電變色薄膜：
薄膜材料之光電性質；透明導體；電變色薄膜之性質與分類 ；電變色薄膜材料之工作原理 ；電變色薄膜材料之光電物化性質 ；電變色元件之製作與應用；電變色元件性能之評估。
3.2電變色薄膜實驗：
析鍍反應控制；電量密度量測；著色效率評估。
4. 掃描式電子顯微鏡(SEM)分析：
4.1 緒論
4.2 發展沿革
4.3 電子顯微鏡的分類
4.4 電子束與物質之作用
4.5 電子顯微鏡及光學顯微鏡之特性
4.6 電子顯微鏡之機台構造
4.7 電子束之成像及繞射路徑概述
4.8 實驗
5. 以X射線光電子光譜（XPS）與螺旋電子光譜（Auger）進行表面分析：
5.1表面分析簡介：
表面的定義；表面敏度；儀器計測法。
5.2 X射線光電子光譜學：
X射線誘導光電子；結合能與化學轉移；光譜特徵。
5.3 螺旋電子光譜學：
電子之螺旋程序；深度剖面解析
5.4 實驗：X射線光電子光譜（XPS）與螺旋電子光譜（Auger）解析。
6. 原子力顯微儀(Atomic Force Microscope)
6.1 穿隧效應
6.2穿隧效應之應用（掃描式穿隧顯微鏡學）
6.3 原子力顯微鏡(AFM)
基本概念介紹；定力操作模式與定高操作模式；儀器計測法（懸臂樑式探測法與壓電陶瓷）；接觸模式（Contact mode）與流動槽；輕叩模式（Tapping mode）。
6.4 側力顯微鏡學(LFM)
6.5 階段成像（phase imaging）
6.6 實驗
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課程要求 |
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預期每週課後學習時數 |
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Office Hours |
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指定閱讀 |
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參考書目 |
教學方法： 基本原理及現象用黑板及配合投影機共同教學
部分內容配合影片放映以引起學生學習興趣
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評量方式
(僅供參考) |
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